东芝半导体设备公司本身也没有能力生产半导体生产线中最核心的光刻机，只能购买尼康和佳能生产的高端和中端光刻机，还购买其他半导体设备厂生产的设备，生产高端和中端半导体生产线。
昔日光刻机的龙头老大gca如今只能批量生产8英寸晶圆和500nm制程工艺的光刻机，光刻机高端市场被生产8英寸晶圆和350nm制程工艺的尼康光刻机抢走，如今只能在中端市场与佳能、日立、ultratech、svg和asml等竞争。
要想夺回光刻机的高端市场，gca只能靠光刻机半导体研究院研制成功适应8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，一举突破8英寸晶圆和500nm制程工艺的瓶颈，研制成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机。
重生者先后参股cymer、memc和zeisssmtag，就是给gca一个重获新生的机会，帮助美国公司在光刻机上同日本公司竞争！
半导体产业是国家的经济实力、科技实力和工业生产能力的综合表现，成为国家的战略产业，bsec的技术实力比gca相差甚远，要不是在重生者的指导下研制成功光刻机双工作台系统，与gca谈判的资格都没有。
寄希望bseikon和gca实行弯道超车，成为世界第一的光刻机公司只是一种理想。
euv光刻机堪比大型航空发动机，前世，举国之力研制成功了大型航空发动机，但没有研制成功euv光刻机。
在重生者的目标中，将gca打造成技术世界第一的光刻机公司，占据高端光刻机市场，将bsec打造成中端光刻机公司，在中端市场占据一定市场份额。
重生者不是超人！
能否追上g，只能靠bsec光刻机半导体研究院的科技人员了！
重生者要是将gca的专利技术偷偷的拿过来送给bsec，就等着坐牢！
重生者不想当英雄，更不愿意当烈s！
死过一次的人将名誉地位看得很澹。
与家人和朋友享受生活才是重生后最大的愿望！
gca重获新生，不仅bsec获利，重生者也能在瓦s纳协定出台之前，有机会引进一条8英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线……
去年底，gca在研制适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套zeisssmtag生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500nm，达到350nm。
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，被命名为gca3500a光刻机。
gca3500a光刻机追上了nikon3500a光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了nikon3500a光刻机。
gca3500a光刻机突破了困扰了g制程工艺光刻机的瓶颈！
孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请sematech专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，gca3500a光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观gca3500a光刻机样机。
由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的sematech，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。
昔日光刻机的龙头老大gca如今只能批量生产8英寸晶圆和500nm制程工艺的光刻机，光刻机高端市场被生产8英寸晶圆和350nm制程工艺的尼康光刻机抢走，如今只能在中端市场与佳能、日立、ultratech、svg和asml等竞争。
要想夺回光刻机的高端市场，gca只能靠光刻机半导体研究院研制成功适应8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，一举突破8英寸晶圆和500nm制程工艺的瓶颈，研制成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机。
重生者先后参股cymer、memc和zeisssmtag，就是给gca一个重获新生的机会，帮助美国公司在光刻机上同日本公司竞争！
半导体产业是国家的经济实力、科技实力和工业生产能力的综合表现，成为国家的战略产业，bsec的技术实力比gca相差甚远，要不是在重生者的指导下研制成功光刻机双工作台系统，与gca谈判的资格都没有。
寄希望bseikon和gca实行弯道超车，成为世界第一的光刻机公司只是一种理想。
euv光刻机堪比大型航空发动机，前世，举国之力研制成功了大型航空发动机，但没有研制成功euv光刻机。
在重生者的目标中，将gca打造成技术世界第一的光刻机公司，占据高端光刻机市场，将bsec打造成中端光刻机公司，在中端市场占据一定市场份额。
重生者不是超人！
能否追上g，只能靠bsec光刻机半导体研究院的科技人员了！
重生者要是将gca的专利技术偷偷的拿过来送给bsec，就等着坐牢！
重生者不想当英雄，更不愿意当烈s！
死过一次的人将名誉地位看得很澹。
与家人和朋友享受生活才是重生后最大的愿望！
gca重获新生，不仅bsec获利，重生者也能在瓦s纳协定出台之前，有机会引进一条8英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线……
去年底，gca在研制适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套zeisssmtag生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500nm，达到350nm。
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，被命名为gca3500a光刻机。
gca3500a光刻机追上了nikon3500a光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了nikon3500a光刻机。
gca3500a光刻机突破了困扰了g制程工艺光刻机的瓶颈！
孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请sematech专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，gca3500a光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观gca3500a光刻机样机。
由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的sematech，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。