SVG在今年5月也研发成功180nm制程工艺的光刻机。技术水平在全球排第五位，在全球中低端光刻机市场占据2成。
BSEC还在研发180nm制程工艺的光刻机，借助于蓬勃发展的国内市场，占据全球中低端光刻机市场的3成，还拥有全球排名第一的磁悬浮式双工作台系统技术，综合实力同SVG并列第五。制程工艺的光刻机比研发原子弹和卫星复杂的多，光刻机产业除了耗资巨大外，还需要技术积累和人才积累，这个时代的国内半导体产业链同美国和日本相比不是一个层次的竞争对手，BSEC不可能花费10年时间就能赶上GCA或Nikon，孙健从开始接手，就有清醒的认识，钱不是万能的！没有193nm波长这道世界级的难题阻挡，BSEC再花10年时间，也赶不上GCA和Nikon
如今EUVLLC联盟同前世唯一不同的是，荷兰光刻机公司AMSL变成了美国光刻机公司GCA。
前世，ASML为了进入EUVLLC联盟，不得不答应美国政府提出的苛刻条件，包括在美国境内建厂、建立研发中心，制造出来的EUV光刻机中有55的零件必须由美企采购。
EUV光刻机中至少有一半技术来自美国高科技公司，这是ASML永远绕不过去的专利技术。
90nm制程工艺的BSEC光刻机不量产，BSEC不会申请浸没式光刻机技术的公司发明专利。
BSEC还在研发180nm制程工艺的光刻机，借助于蓬勃发展的国内市场，占据全球中低端光刻机市场的3成，还拥有全球排名第一的磁悬浮式双工作台系统技术，综合实力同SVG并列第五。制程工艺的光刻机比研发原子弹和卫星复杂的多，光刻机产业除了耗资巨大外，还需要技术积累和人才积累，这个时代的国内半导体产业链同美国和日本相比不是一个层次的竞争对手，BSEC不可能花费10年时间就能赶上GCA或Nikon，孙健从开始接手，就有清醒的认识，钱不是万能的！没有193nm波长这道世界级的难题阻挡，BSEC再花10年时间，也赶不上GCA和Nikon
如今EUVLLC联盟同前世唯一不同的是，荷兰光刻机公司AMSL变成了美国光刻机公司GCA。
前世，ASML为了进入EUVLLC联盟，不得不答应美国政府提出的苛刻条件，包括在美国境内建厂、建立研发中心，制造出来的EUV光刻机中有55的零件必须由美企采购。
EUV光刻机中至少有一半技术来自美国高科技公司，这是ASML永远绕不过去的专利技术。
90nm制程工艺的BSEC光刻机不量产，BSEC不会申请浸没式光刻机技术的公司发明专利。